网络研讨会: Saphir 250 系列 – 新一代研磨抛光机

该设备设计有一个新的防溅环，清晰的工作区域，可拆卸的水龙头和倾斜的控制面板，令人信服地实现了方便操作的所有要求。工作盘的旋转方向可以通过设备后部的开关来选择。

新型的工作圆盘底座（整盘原理）可以更好地进入槽内，在更换研磨和抛光介质以及清洁时节省时间。在制备过程结束时，可切换的加速清洁功能在3秒钟内以750转/分的速度将残留在研磨和抛光介质上的液体甩出。

该设备有单盘或双盘可供选择。

主讲人：
Luwan Sun，产品管理&应用技术
Samir Mumdzic，产品管理&应用技术

网络研讨会记录

语言 : 英语